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Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡

簡要描述：Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡
具有高反射率的寬帶和激光線介電反射鏡（在規(guī)定的較小范圍內(nèi)大于99％），可在0°至45°的所有入射角下工作。寬帶和激光線反射鏡適用于280-400 nm，349-355 nm，400-750 nm，524-532 nm，532 + 1064 nm，750-1100 nm，1047-1064 nm波長范圍。

產(chǎn)品品牌：Eksma
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2021-03-22
訪問量：946

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品牌	Eksma	價格區(qū)間	面議
組件類別	光學(xué)元件	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡

Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡

寬帶介電反射鏡在280-400 nm，400-750 nm，750-1100 nm波長范圍內(nèi)從0°到45°的所有入射角均可工作。

產(chǎn)品介紹

Ø對于（s + p）/ 2偏振，Ravg> 99％，可在0至45°的所有入射角下工作

Ø激光損傷閾值> 1 J / cm2，脈沖為8納秒，典型值為1064 nm

具有高反射率的寬帶和激光線介電反射鏡（在規(guī)定的較小范圍內(nèi)大于99％），可在0°至45°的所有入射角下工作。寬帶和激光線反射鏡適用于280-400 nm，349-355 nm，400-750 nm，524-532 nm，532 + 1064 nm，750-1100 nm，1047-1064 nm波長范圍。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

基材: UVFS

型號	材料	D	ET	R, % (S+P)/2	AOI	波長
041-0257-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	257 nm
042-0257-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	257 nm
086-2840-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	280-400 nm
082-2840-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	280-400 nm
041-0350-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.5%	0-45°	343-355 nm
042-0350-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.5%	0-45°	343-355 nm
086-4075-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
082-4075-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
085-4075-i0-45	UVFS	50.8 mm	8 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
041-0530HHR-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.9%	0-45°	524-532 nm
042-0530HHR-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.9%	0-45°	524-532 nm
061-5306HHR-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.7%	0-45°	532+1064 nm
062-5306HHR-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.7%	0-45°	532+1064 nm
086-7511-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm
082-7511-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm
085-7511-i0-45	UVFS	50.8 mm	8 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm
041-0800HHR-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.9%	0-45°	760-840 nm, Low GDD
042-0800HHR-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.9%	0-45°	760-840 nm, Low GDD
041-1060HHR-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.7%	0-45°	1047-1064 nm
042-1060HHR-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.7%	0-45°	1047-1064 nm

基材: BK7

型號	材料	D	ET	R, % (S+P)/2	AOI	波長
076-4076-i0-45	BK7	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
072-4075-i0-45	BK7	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
075-4075-i0-45	BK7	50.8 mm	8 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
076-7511-i0-45	BK7	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm
072-7511-i0-45	BK7	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm
075-7511-i0-45	BK7	50.8 mm	8 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm

基材

材料	UV級熔融石英
S1表面平整度	λ/10 typical at 633 nm
S1表面質(zhì)量	20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
S2表面質(zhì)量	簡單拋光
直徑公差	+ 0.00 mm, - 0.12 mm
厚度公差	± 0.25 mm
楔	< 3 minutes
倒角	0.3 mm at 45° typical

鍍膜

技術(shù)	電子束多層電介質(zhì)
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
損傷閾值	1 J / cm2，8納秒脈沖，典型值1064 nm
鍍膜表面平整度	633 nm處的λ/ 10超過直徑的85％
入射角	從0°到45°

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